带 Vp5 真空的 Ivoclar Programat EP 5010 G2 熔炉

产品价格
2000 USD 每 UNIT
带 Vp5 真空的 Ivoclar Programat EP 5010 G2 熔炉
C2T PREMIUM
产品详情
增强的烧结和结晶化:集成的 VP5 真空泵可创建可控的真空环境,优化烧结和结晶过程,以实现卓越的材料特性和美观性。 精确的温度控制:EP 5010 G2 熔炉采用先进的温度控制技术,可确保一致而准确的加热曲线,以获得最佳结果。 直观的触摸屏界面:用户友好的触摸屏界面使编程和监控射击周期变得简单而高效。 多用途:配备 VP5 真空吸尘器的 EP 5010 G2 适用于各种牙科材料,包括氧化锆、微晶玻璃等。 紧凑高效的设计:该系统的紧凑占地面积和节能运行使其成为现代牙科实验室的理想之选。
样品信息
装运港
美国
Akutan Port, Belle Fourche Port, Dillingham Port
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