钨坩埚用于半导体合金核和真空冶金应用的高纯度 W 耐高温金属

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半导体单晶生长：在硅单晶的拉伸过程中，钨坩埚可以承受高于的温度，并且可以长时间与熔融的硅保持接触，而不会发生化学反应。对于诸如砷化镓和氮化镓等具有更高熔点和更严格纯度要求的III-V组半导体材料，生长温度通常需要达到或以上，而钨坩埚可以提供稳定且高纯度的熔体环境。 高温合金和功能材料熔炼：钴基和镍基高温合金需要在温度高达的真空或惰性环境中进行真空电弧熔炼或感应熔炼。在这些极端条件下，钨坩埚可以保持尺寸稳定性和机械完整性。此外，含有钨、瑞、铂和钯等稀有贵金属的合金，以及碳化硅、氮化硅和氧化锆等功能陶瓷的熔炼或烧结，也使用钨坩埚。 核工业和放射性材料加工：在铀和钍金属的高温熔炼和铸锭铸造过程中，钨坩埚，由于中子吸收截面低，耐辐射性优异，用于制备核燃料块或目标。在放射性废物的高温处理中，钨坩埚可以在高温化学环境中长时间运行，从而降低二次污染的风险。 真空冶金和电子束熔化：在电子束熔炼设备中，钨坩埚用于容纳金属粉末或金属块，并在真空状态下使用电子束流进行熔化和精制。在真空热处理和热等静压工艺中，钨坩埚通常还用作坩埚或内套，以确保在高温和高压条件下实现致密的微观结构。 材料科学研究和高温分析：在高温热分析仪器中，钨坩埚可用于测量上述样品，以研究材料相变、热分解和氧化行为。在研究机构建立的高通量熔炼和筛选平台中，钨坩埚还经常用于小尺寸样品的平行合成和快照性能测试。

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